一、半导体工业双温区充氮洁净烘箱的主要技术参数

1. 内层尺寸:(宽650*高500*深500mm) *2、上下两个温度区，温度互不影响;

2. 尺寸:宽1540*高1600*深850mm;

3. 温度范围:室温~ +270℃;

4. 温度波动:±1℃;

5. 炉内温差:±1℃(空载、恒温);

6. 循环送风方式:双面水平送风，≥1200立方米/小时;

7. 总功率:21KW;

二、半导体行业双温区充氮洁净烘箱结构特点

1. 外壳材质:2.0mm厚A3冷板，折弯焊接制作;

2. 表面处理:表面研磨、抛光、全壳高温静电喷涂处理(RAL7035)，设备满足10K无尘车间使用;

3. 内胆材质:采用1.5mm厚SUS304镜面不锈钢板，机身内部全氩弧焊及全焊处理，完全封闭空间，钣金结构，不锈钢表面无损伤，光亮如镜，美观无尘。