志圣曝光机UVE-M500是一款高精度的应用设备，以下是我司提供设备技术方案。

主要用途：液态绿漆双面曝光。

主要系统：曝光控制、光源、冷却、台面真空、电控等系统。

曝光控制：采用LCD显示器配合软件及硬件之控制，并以数字化设定的操作方式达到更的能量控制。

光源系统：采常态点灯方式。并装有自动遮光器配合曝光控制系统之强/弱光控制，达到输出稳定及减热之功能。

冷却系统：光源冷却，采间接水冷。冷却循环水经由双管结构的石英玻璃管流过将热源带走。曝光台面系采强制气冷方式，且可控制温度。灯管系采气压作灯头冷却，使其不致过热损坏。

真空系统：采MYLAR薄膜对玻璃配合真空系统之强大吸力，达到紧密贴合之效果。

保护措施：漏电检知、紧急开关、异常信息警告及显示、水箱超温保护、冷却异常自动熄灯、冷却循环水压异常自动熄灯…..等。